抛光膏和抛光粉的差别在于:抛光膏除开本身含有该粒度的优质抛光粉作为磨料以外,还含有湿润剂、表面活性剂、分散稳定剂和调整剂等配置而成.抛光膏集物理和化学原理于一身,效能比抛光粉更优异。
氧化铝抛光膏的物理化学特性如下：
(1) 氧化铝粉体具有硬度高、磨削力強、适用范围广等优点. 顆粒圆滑、不易产生划痕、粒度分布范围窄、具有良好的研磨抛光性能、悬浮稳定性好、研磨后材料表面好等特点.
(2) 氧化铝具有不同的相:
α-Al2O3是一种具有六方晶胞的稳定相、一次粒径整齐且不含中间相、其颗粒形貌为球形.
γ-Al2O3是一种活性高且具有正方晶胞的亚稳结构,从γ-Al2O3向α-Al2O3相变的特点是表面积减少.
氧化铝纯度越高所体现的性能为:白度越高、硫含量越少、松密度越大、团聚度越弱.
鉴于以上特性,在金相组织抛光分析中,纳米镜面抛光一般选用γ-Al2O3,而其他的选用α-Al2O3 .
(3) 氧化铝抛光膏广泛应用于:
玻璃、金属、单晶硅片等半导体、塑料、压电晶学、光学晶体、光学玻璃、光学塑料、显像玻壳 、计算机硬盘、光学镜头、高档石材、各种金属装饰材料、非金属、陶瓷加工、不锈钢材、铜、铝材、水晶、人造或天然宝石等行业的高精度表面处理.
金属类金相切片、非金属类金相切片、合金类金相切片、PCB/PCBA/FPC/FPCA金相切片研磨抛光等.
(4) 产品粒度有W0.05、W0.3、W0.5、W1.0、W2.0、W3.0、W5.0、W7.0、W9.0等;
(5) 产品包装：200毫升/瓶和500毫升/瓶。
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