美国Trion公司反应离子刻蚀机RIE

 北京创世杰公司提供美国Trion公司的Orion III系列等离子增强化学气相沉积（PECVD）系统、Phantom III系列反应离子刻蚀系统（RIE，DRIE，ICP等）和Apollo型等离子去胶机。美国Trion公司为化合物半导体、MEMS（微机电系统）、光电器件以及其他半导体市场提供多种等离子工艺设备。Trion产品在业内以系统占地面积小，成本合理而著称，且设备及工艺可靠性和稳定性久经考验。产品线既包含成套的批量生产设备，也有用于科研开发的系统。

型号：Phantom III反应离子刻蚀机

设备主要性能指标:

1. 适于研发、实验室、芯片失效分析和小批量生产

2. 采用氟基、氯基、溴基、氧基化学，适合刻蚀铝、砷化镓、钛、铜、铬、硅、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、聚酰亚胺、环氧树脂、石墨、钼、钽、钨等薄膜（部分材料需选配预真空腔室）

3. 可使用的工艺气体：Cl2、BCl3、SiCl4、HBr、NF3、SF6、CF4、CHF3、O2等（部分工艺气体需选配预真空腔室）

4. 基片台尺寸为200mm或300mm

5. 基片尺寸可达300mm，兼容更小尺寸的基片

6. 标配功率600W、频率13.56MHz的射频等离子激发源（电容源），含自动阻抗匹配网络

7. 从反应腔室顶盖处直接装卸基片

8. 配备工艺压力下游自动控制系统

9. 标配4路，可选7路质量流量计控制的工艺气路，采用超洁净管路及VCR接头

10. 基于计算机的配方式工艺控制系统，彩色触摸屏操控

11. （可选）增加功率600W或1250W、频率13.56MHz的ICP高密度等离子激发源（电感源），改善刻蚀速率、刻蚀选择比、形貌控制、均匀性并且减少离子损伤

12. （可选）基片温度控制-冷却或加热

13. （可选）在线刻蚀终点监测系统EPD

14. （可选）油泵、干泵及分子泵

15. （可选）静电卡盘基片台

16. （可选）预真空锁腔室

17.  （可选）ICP电感应耦合等离子源

同时，本公司还可以提供美国Trion公司用于批量生产型的Titan型和Oracle III型多腔室型生产型的等离子增强化学气相沉积系统PECVD和反应离子刻蚀系统RIE（含ICP、HDICP、深硅刻蚀等）。

【商家简介】北京创世杰科技发展有限公司2001年成立于北京，主要是致力于半导体电子产品制造及测试设备、真空产品等业务，为广大的中国客户提供国际上先进的产品和服务。公司的经营哲学为：依靠经验丰富的专业团队，为中国市场提供优质的产品服务及技术支援，全力维护与客户及供应商的长期合作伙伴关系。主要产品：1）英国Dage公司Dage4000/4000plus/Dage5000推拉力测试机（键合力测试仪、拉力剪切力测试仪）2）德国YXLON公司（原Feinfocus）X光无损检测系统/3D CT X光无损检测系统（型号：Y.CO... 【温馨提示】以上是北京创世杰科技发展有限公司供应的其他电子制造设备--反应离子刻蚀机-美国Trion公司反应离子刻蚀机RIE的详细信息，欢迎您在驿路商务查看其他电子制造设备的新的价格、厂家、型号、图片等信息。本页所展示的信息由企业自行提供，内容的真实性、准确性和合法性由发布企业负责，"驿路商务"对此不承担任何保证责任。同时郑重提醒各位买/卖家，交易前请详细核实对方身份，切勿随意打款或发货，谨防上当受骗。如发现虚假信息，请积极举报。[我要举报]

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