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美国Trion公司等离子增强化学气相沉积系统PECVD

  • 美国Trion公司等离子增强化学气相沉积系统PECVD
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  • 单 价:电议

    产品/服务:等离子增强化学气相沉积系统

    品 牌:美国TRION公司 

    供货总量:

    发货期限:自买家付款之日起 3 天内发货

    所在地:天津

    有效期至:长期有效

    最后更新:2018-10-14 13:59

    浏览次数:700

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公司基本资料信息
 
产品详细说明
 北京创世杰公司提供美国Trion公司的Orion III系列等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统、Phantom III系列反应离子刻蚀系统(RIE,DRIE,ICP等)和Apollo型等离子去胶机。美国Trion公司为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种等离子工艺设备。Trion产品在业内以系统占地面积小,成本合理而著称,且设备及工艺可靠性和稳定性久经考验。产品线既包含成套的批量生产设备,也有用于科研开发的系统。

 

Orion III 等离子增强型化学气相沉积机

设备主要性能指标:

1. 适于实验室和小规模生产线

2. 适合沉积氧化硅、氮化硅、氮氧化硅以及非晶硅等薄膜

3. 可使用的工艺气体:SiH4(含量<20%)、NH3、TEOS、SiH2Cl2、N2O、O2以及N2等

4. 基片台尺寸为200mm或300mm

5. 基片尺寸300mm,兼容更小尺寸的基片

6. 标配功率300W、频率350-460kHz的等离子激发源(底部源)

7. 从反应腔室顶盖处直接装卸基片

8. 配备工艺压力下游自动控制系统

9. 标配4路,可选8路质量流量计控制的工艺气路,采用超洁净管路及VCR接头

10. 基于计算机的配方式工艺控制系统,彩色触摸屏操控

11. (可选)增加功率600W、频率13.56MHz的高密度等离子激发源(顶部源),优化薄膜应力控制

12. (可选)基片加热温度控制50℃至400℃

13. (可选)油泵、干泵及分子泵

14.  (可选)Loadlock预真空锁腔室

15.  (可选)ICP电感应耦合等离子源

同时,本公司还可以提供美国Trion公司用于批量生产型的Titan型和Oracle III型多腔室型生产型的等离子增强化学气相沉积系统PECVD和反应离子刻蚀系统RIE(含ICP、HDICP、深硅刻蚀等)。

商家简介】北京创世杰科技发展有限公司2001年成立于北京,主要是致力于半导体电子产品制造及测试设备、真空产品等业务,为广大的中国客户提供国际上先进的产品和服务。公司的经营哲学为:依靠经验丰富的专业团队,为中国市场提供优质的产品服务及技术支援,全力维护与客户及供应商的长期合作伙伴关系。主要产品:1)英国Dage公司Dage4000/4000plus/Dage5000推拉力测试机(键合力测试仪、拉力剪切力测试仪)2)德国YXLON公司(原Feinfocus)X光无损检测系统/3D CT X光无损检测系统(型号:Y.CO...
 
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